Die Optimierung von Oberflächen für weiterführende Anwendungen z.B. in den Bereichen Optik, Pharmazie, Medizin oder Werkstoffe stellt große Herausforderungen an die Prozessführung. Speziell der gezielte Einsatz von Nanostrukturen auf Oberflächen oder die Herstellung sowie Modifizierung von neuartigen nano- und mikrodispersen Materialien machen Weiterentwicklungen beim Herstellungsprozess unabdingbar. Aufgrund der großen Anwendungsbreite, der hohen Flexibilität und der Möglichkeit, gezielt Strukturen im nm-Bereich zu erzeugen und zu verändern, sind plasmabasierte Prozesse bei der Modifikation von Oberflächen die erste Wahl.
In unserer Arbeitsgruppe nutzen wir z.B. Hochfrequenzplasmen, um unter der Verwendung von Prekursoren nano- und mikrodisperse Materialien herzustellen. Zum genaueren Verständnis des Entstehungsprozesses werden die vorliegenden staubigen Plasmen mittels konventioneller (Langmuirsonde, Massenspektrometrie, Absorptionsmessungen, …) und nicht-konventioneller Diagnostiken (Kalorimetrische Sonde, Partikel als Sonde, …) untersucht.
Ferner modifizieren wir Partikel unterschiedlicher Größe und Materialien durch Behandlung in ausgewählten Gasentladungen (Hohlkathodenentladung, RF-Plasma) oder durch allseitige Beschichtung (Magnetron-Sputtern). Dieses Forschungsthema zielt auf eine deutliche Erweiterung des Anwendungsfeldes von mikroskopisch veränderten Oberflächen und Nanokompositen ab.
Darüber hinaus werden in unserer Arbeitsgruppe Verfahren entwickelt, die den Einbau gezielt veränderter Teilchen in Schichtsysteme ermöglicht. Dieses Vorgehen ermöglicht die Einstellung bestimmter Schichteigenschaften mit multifunktionalem Charakter, wie z.B. hydrophob, verschleißresistent, magnetisch, oxidationsbeständig usw.
Metallisierung von Polyethylen-Pulver in LA250 mittels Magnetron-Sputtern unter Verwendung eines Cu-Targets.